[发明专利]减小器件制备中的氧化应力无效
申请号: | 98120705.7 | 申请日: | 1998-09-23 |
公开(公告)号: | CN1213857A | 公开(公告)日: | 1999-04-14 |
发明(设计)人: | 约翰·阿尔斯迈耶 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8239;H01L21/8242 |
代理公司: | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人: | 杨梧 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种具有形成在衬底表面下的沟槽电容器的随机存取存储单元。提供浅沟槽隔离,用于将存储单元与存储阵列的其它存储单元隔离。浅沟槽隔离包括升高到衬底上的上表面,以减小氧化应力。 | ||
搜索关键词: | 减小 器件 制备 中的 氧化 应力 | ||
【主权项】:
1.一种计算机系统,包括:存储器,其中存储器包括随机存取存储单元,所说存储单元包括沟槽电容器,所说沟槽电容器形成在硅衬底的主表面下;晶体管,包括栅、源和漏区,其中,所说晶体管的所说漏区电连接到所说沟槽电容器;及升高的浅沟槽隔离(RSTI),所说RSTI有高于硅衬底主表面的上表面,其中上表面的升高量足以防止随后形成的草皮层延伸到衬底表面下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的