[发明专利]湿法腐蚀过程的终点探测方法有效
申请号: | 98120706.5 | 申请日: | 1998-09-23 |
公开(公告)号: | CN1127660C | 公开(公告)日: | 2003-11-12 |
发明(设计)人: | 卡尔·P·马勒;克劳斯·D·彭纳 | 申请(专利权)人: | 西门子公司;国际商业机器公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 黄敏 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种确定湿法腐蚀工艺过程的终点的方法,包括选择入射光束的相干长度的步骤,使得相干长度足够短以致在液体层中不发生干涉,而足够长以致在薄固体膜,即,从液体层与该薄膜顶面间的界面上的反射光,和从该薄膜底面与衬底之间的界面上的反射光能发生干涉。若液体层厚为100微米,该薄膜厚约1微米,则相干长度约10微米。相干长度由适当的带通滤波器提供。 | ||
搜索关键词: | 湿法 腐蚀 过程 终点 探测 方法 | ||
【主权项】:
1、一种确定湿法腐蚀工艺过程终点的方法,包括:提供一个待腐蚀的薄固体膜于一衬底上,该衬底设置在装设于腐蚀机上的底座上;用腐蚀剂溶液覆盖待腐蚀的薄固体膜表面,从而在所述薄固体膜上形成液体层,该液体层的厚度比薄固体膜的厚度厚两个数量级;选择用于入射光束的相干长度,所述相干长度足够长使得从液体层与薄固体膜的顶面之间的界面和从薄固体膜的底面与衬底之间的界面反射的光束将发生干涉,以及所述相干长度足够短使得从液体层的顶面和在液体层与薄固体膜的顶面之间的界面反射的光束将不发生干涉;提供一个具有选定的相干长度的光束射向该衬底的表面上,该选定的相干长度是使用一个带通滤波器获得的;以及监测用该光束在该薄固体膜上产生的干涉信号以确定腐蚀终点,其中,在腐蚀时该衬底是旋转的。
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