[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法无效

专利信息
申请号: 98122788.0 申请日: 1998-12-03
公开(公告)号: CN1121810C 公开(公告)日: 2003-09-17
发明(设计)人: 澤田康志;山崎圭一;井上吉民;岡崎幸子;小駒益弘 申请(专利权)人: 松下电工株式会社
主分类号: H05H1/28 分类号: H05H1/28;H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 孙敬国
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明揭示一种等离子处理装置和等离子处理方法。包括具有外侧电极1的筒状反应管2及配置在反应管2内部的内侧电极3,反应管2内引入惰性气体或惰性气体与反应气体的混合气体,同时在外侧电极1与内侧电极3之间加上交流电场,通过这样在大气压下使反应管2内部产生辉光放电,从反应管2喷出等离子喷气,并在外侧电极及内侧电极的至少一方设置冷却装置。
搜索关键词: 等离子 处理 装置 方法
【主权项】:
1.一种等离子处理装置,包括具有外侧电极的筒状反应管及配置在反应管内部的内侧电极,反应管内引入惰性气体或惰性气体与反应气体的混合气体,同时在外侧电极与内侧电极之间加上交流电场,通过这样在大气压下使反应管内部产生辉光放电,从反应管喷出等离子喷气,其特征在于,在外侧电极及内侧电极的至少一方设置冷却装置。
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