[发明专利]用于等离子体工艺的工艺检测系统无效
申请号: | 98123402.X | 申请日: | 1998-10-19 |
公开(公告)号: | CN1165952C | 公开(公告)日: | 2004-09-08 |
发明(设计)人: | D·F·沃纳;K·S·格里斯;K·P·纳斯曼 | 申请(专利权)人: | 恩尼技术公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;G05B19/409;H05H1/24 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邹光新;张志醒 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 等离子体工艺控制装置控制用于为射频或DC等离子体工艺的等离子体室(18)提供电源的射频电源(12)。传感器系统(16)检测电源的操作参数,包括电压和电流。工艺检测系统(PDS)控制器(26)具有连接到检测系统(16)以接收它的所述操作参数的输入,用于存储在所述操作参数的基础上确定输出控制信号的控制程序的可编程存储器单元(30),和连接到所述射频电源的控制输入的控制输出。外部的计算机装置(42)包括监视器(46),图标拷贝装置,例如适于拖放操作的鼠标(50),和存储适当的代码建立程序(44)以根据用户确定的工艺要求产生用户选择的控制程序的存储器。各图标出现在监视器上并被选择和连接以代表所述操作参数的逻辑处理,外部的计算机装置(42)产生相应用户选择的控制程序。例如使用标准的连接器和电缆,用户选择的控制程序由外部的计算机装置下载到PDS控制器(26)的可编程存储器(30)。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 工艺 检测 系统 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体工艺控制装置,其中射频电源(12)向等离子体室(18)提供电源,所述电源具有包括电压和电流的可检测的操作参数,其中检测系统(16)检测所述操作参数;所述等离子体工艺控制装置包括一工艺检测系统控制器(26),所述工艺检测系统控制器(26)具有连接到所述检测系统(16)以接收它的所述操作参数的输入装置(28),用于存储控制程序以根据所述操作参数确定输出控制信号的可编程存储器单元(30),以及连接到所述射频电源(12)的控制输入的控制输出(38);其特征在于外部的计算机装置(42)具有监视器(46),图标拷贝装置(50),和存储适当的代码建立程序(44)以根据用户确定的工艺要求产生用户选择的控制程序的存储器,外部的计算机装置(42)连接到所述工艺检测系统控制器(26),用于将用户选择的控制程序从外部的计算机装置装载到所述工艺检测系统控制器的可编程存储器中;特征还在于各图标出现在监视器(46)上并被选择和连接以代表所述操作参数的逻辑处理,由此所述外部的计算机装置(42)产生装载到所述工艺检测系统控制器(26)的对应用户选择的控制程序。
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