[发明专利]pH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用无效
| 申请号： | 98123848.3 | 申请日： | 1998-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN1152102C | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | C·K·胡恩;M·金施纳;M·J·麦克唐纳;M·P·穆雷 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种含有磨料颗粒和pH值缓冲组分的浆液特别适用于抛光表面，包括在微电子学中的应用，该浆液含有至少一种酸或其盐以及至少一种碱。 | ||
| 搜索关键词： | ph 缓冲 浆液 及其 抛光 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种表面抛光的方法，该法包括：包括首先通过所述表面与含有磨料颗粒且pH值为1至6的第一浆液接触，然后将上面有所述浆液的表面与抛光垫接触和抛光；随后将含有磨料颗粒和pH值缓冲组分的pH3-11的不同的第二浆液提供在所述表面上，该pH值缓冲组分含有至少一种酸或其盐或其混合物，其浓度为10-5至102M以及含有至少一种碱或其盐或其混合物，其浓度为10-5至102M；并且其中第二浆液的缓冲组分不含金属阳离子；以及通过所述表面与抛光垫接触来抛光其上有所述的二次浆液的所述表面。
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