[发明专利]用于化学放大抗蚀剂的共聚物无效
| 申请号： | 98125176.5 | 申请日： | 1998-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN1125836C | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 崔相俊;姜律;郑东垣;朴春根 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | C08F222/06 | 分类号： | C08F222/06;G03F7/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种应用于化学放大抗蚀剂的光敏聚合物。光敏聚合物为式(I)：∴其中R1选自氢和C1至C20脂烃，n为整数。特别地，R1选自甲基、乙基、正丁基和环己基或R1选自含C7至C20脂环脂烃，如金刚烷基、降冰片基和异冰片基。本发明还提供了包含光酸引发剂和聚合物的化学放大抗蚀组合物。聚合物为式(II)：∴其中R1选自氢和C1至C20脂烃；R2选自氢或甲基；R3选自叔丁基或四氢吡喃基；n和m各自为整数，其中n/(m+n)比例为0.1至0.5。本发明化学放大抗蚀组合物对干蚀工艺具有强的抗蚀性，对膜材料具有优良的粘合性，可利用常规显影剂显影。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 放大 抗蚀剂 共聚物 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学放大抗蚀剂的共聚物，所述共聚物具有式(I)：其中R1选自氢和C1至C20脂烃，n为整数，所述共聚物的平均分子量为3,000到100,000。
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