[发明专利]去除沉积物的气体和使用该气体的去除方法无效
申请号: | 98125349.0 | 申请日: | 1998-12-18 |
公开(公告)号: | CN1119385C | 公开(公告)日: | 2003-08-27 |
发明(设计)人: | 毛利勇;田村哲也;大桥满也 | 申请(专利权)人: | 森陶硝子株式会社 |
主分类号: | C09K13/00 | 分类号: | C09K13/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 龙传红 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种通过气固反应去除沉积物的气体。这种气体包括一种次氟化物,所说的次氟化物定义为在其分子中至少有一个OF基团的化合物。用该气体可以去除各种沉积物,由于使用了次氟化物,该气体在去除所说的沉积物之后可以容易地使其对全球环境无害。本发明还涉及一种用所说的气体去除沉积物的方法。这种方法包括步骤(a)使所说的气体与所说的沉积物接触,从而通过气固反应去除所说的沉积物。 | ||
搜索关键词: | 去除 沉积物 气体 使用 方法 | ||
【主权项】:
1、一种通过气固反应去除沉积物的气体,所说的气体包括一种次氟化物,以及至少一种第一气体组分和/或至少一种第二气体组分,所述的至少一种第一气体组分选自由氢气和含氢气体组成的组中,所述的至少一种第二气体组分选自由氧气和含氧气体组成的组中,其中的含氧气体为CO2、CO、NO、NO2和N2O。
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