[发明专利]用于半导体器件中的接触故障检测的装置和方法无效
申请号: | 98126555.3 | 申请日: | 1998-12-25 |
公开(公告)号: | CN1239321A | 公开(公告)日: | 1999-12-22 |
发明(设计)人: | 全忠森;全相文;金定坤;崔相奉 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/28 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 谢丽娜 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供用于半导体器件的接触故障检测系统和方法及制造半导体器件的方法。通过将使用扫描电子显微镜检测的电子信号数字化,可以检测接触,以识别例如未开口接触孔的故障。接触故障检测是通过将从包括至少一个接触孔的单元区域检测的电子信号值与表示对应于正常接触的电子信号的值相比较进行的。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体器件 中的 接触 故障 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.检测半导体晶片的至少一部分的方法,包括:读取半导体晶片的部分的扫描电子显微镜(SEM)图像数据;在用于半导体晶片的部分的数据内识别半导体晶片上特征的图像数据;从该特征的图像数据计算与该特征有关的参数;将所述参数与该参数的可接受值范围相比较;根据与该参数的可接受值范围的比较将该特征分类。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造