[发明专利]在固体电解质离子导体系统中降低碳生成的方法无效
申请号: | 98126772.6 | 申请日: | 1998-11-17 |
公开(公告)号: | CN1140320C | 公开(公告)日: | 2004-03-03 |
发明(设计)人: | N·R·克斯卡;R·普拉萨德;C·F·戈茨曼 | 申请(专利权)人: | 普莱克斯技术有限公司 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22;C01B13/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 钟守期 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种抑制在阳离子迁移膜的渗透侧上由含碳反应气流形成碳和焦炭的方法,该方法还可用来提高在其上的氧气分压,该方法是通过在滞留侧分离原料气流形成的贫氧气流和在渗透侧分离含氧反应产品气流实现的。用含碳反应气流清洗渗透侧,并且再循环至少一部分由反应气流与分离的氧气反应形成的废气流以清洗渗透侧。 | ||
搜索关键词: | 固体 电解质 离子 导体 系统 降低 生成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于抑制在氧离子迁移膜的渗透侧由含碳反应气流形成碳和/或焦炭的方法,该方法包括:用含有氧离子迁移膜的氧离子迁移组件分离含元素氧和至少一种其它气体的原料气流,所述的氧离子迁移膜具有滞留侧和渗透侧,在滞留侧形成贫氧气流,在渗透侧形成含反应产品的气流;用含碳反应气流清洗氧离子迁移膜的渗透侧;再循环至少一部分由含碳反应气流与渗透通过氧离子迁移膜的氧气流反应形成的废气流以清洗氧离子迁移膜的渗透侧;和将至少一部分废气流通过一个分离器以去除二氧化碳,以及在未被分离的废气流的再循环部分被用于清洗氧离子迁移膜的渗透侧之前将至少一部分二氧化碳与其结合以形成用于清洗氧离子迁移膜渗透侧的再循环气流,从而抑制碳和/或焦炭的形成。
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