[发明专利]向具有较小或无吸留气体区域的装置施加流体的设备和方法无效
| 申请号： | 98127114.6 | 申请日： | 1998-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1223148A | 公开（公告）日： | 1999-07-21 |
| 发明（设计）人： | S－M·林;P·T·雅各布斯;S·S·S·吴;N·S·楚 | 申请（专利权）人： | 伊西康公司 |
| 主分类号： | A61L2/20 | 分类号： | A61L2/20;A61L2/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林长安 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于向器械施加流体的系统,包括将第一空间和第二空间分离的分界面。分界面具有至少一个用于容纳器械的开口。开口上具有与器械相接触从而形成接触区域的接触表面。连接到开口上以便提高所说流体向接触区渗透率的装置。该系统明显减小或完全消除了器械表面上的封闭区。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 较小 无吸留 气体 区域 装置 施加 流体 设备 方法 | ||
【主权项】：
1．向器械施加流体的一种系统，它包括：将第一空间和第二空间分离的分界面，分界面具有至少一个用于容纳器械的开口，其中开口上具有与器械相接触从而形成接触区域的接触表面；和连接到开口上以便提高所说流体向接触区渗透率的装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊西康公司，未经伊西康公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/98127114.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
