[实用新型]等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机无效
| 申请号： | 98236950.6 | 申请日： | 1998-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN2333716Y | 公开（公告）日： | 1999-08-18 |
| 发明（设计）人： | 陈大民;陈宝清 | 申请（专利权）人： | 陈大民;陈宝清 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳市专利事务所 | 代理人： | 于菲 |
| 地址： | 110015 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机,它包括真空室,在真空室上联接有真空排气装置,真空室中安装有工件架,其特征是在真空室的底部安装有E型电子枪,同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。本实用新型的优点有由于生产工艺的简化和设备投资的减小,使产品的生产成本得到降低。消除了原生产工艺对环境的污染及对人体所产生的有害影响,可以在仿金饰件外镀制保护膜,可以提高其使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 体型 阴极 弧源一 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
1、等离子体型多弧源-磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有E型电子枪，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。
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