[发明专利]用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物及用于该组合物的化合物无效

专利信息
申请号: 98800696.0 申请日: 1998-05-21
公开(公告)号: CN1226978A 公开(公告)日: 1999-08-25
发明(设计)人: 穆尼拉斯纳·帕德马纳班;康文兵;田中初幸;木村健;格奥尔格·帕夫洛夫斯基 申请(专利权)人: 克拉瑞特国际有限公司
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;C08F20/34;C08F20/38;C08F20/10;C08F22/04;C08F22/40;H01L21/027
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程伟
地址: 瑞士穆*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物,该涂层在100~450nm范围内对曝光辐射具有高吸收率,光产生的酸在抗反射涂层上不会扩散,并且抗蚀层和抗反射涂层不会混合,且具有良好的贮存稳定性和良好的步进式覆盖,同时提出并公开了用于这种组合物的新的化合物和聚合物。该组合物含有一个丙烯酸的或异丁烯酸的、具有一个异氰酸酯或异硫氰酸酯基团通过亚烷基键合到它们的侧链上、或者具有能在100到450nm波长范围内吸收辐射的有机生色团的氨基或羟基的化合物或聚合物,例如通过一个亚烷基键合到异氰酸酯或异硫氰酸酯基团上。在衬底上如下形成一个具有高分辨率的抗蚀层图样。即一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物应用于衬底上,且烘烤后形成一个抗反射或吸收辐射的涂层。然后,一种化学放大的抗蚀剂涂在其上,曝光后图样显影。在烘烤期间这种抗反射或吸收辐射涂层由于异氰酸酯或异硫氰酸酯基团的存在而发生硬化或固化。另一方面,这种曝光射线在100~450nm的波长范围内为有机生色团所吸收。
搜索关键词: 用于 反射 吸收 辐射 涂层 组合 化合物
【主权项】:
1.一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物,所述组合物含有下列通式Ⅰ表示的一种单体染料和/或通式Ⅱ表示的一种聚合物,通式Ⅰ:通式Ⅱ:其中:R为一个氢原子或一个烷基;R1为一个亚烷基、一个取代的亚烷基、一个环亚烷基、一个取代的环亚烷基、一个亚苯基或一个取代的亚苯基;R2为一个苯基、-COOH、一个卤原子、一个氰基、一个烷氧基或-COOR6,其中R6为一个取代的或未取代的烷基或芳基或一个乙酰乙酸乙酯基团;R3为-COOD;D是一个能吸收曝光波长为100~450nm有机生色团,并且表示一个取代或未取代的苯环、稠环、或直接键合或通过一个亚烷基键合的杂环;X为氧或硫,Y为氧或NR4基,其中R4为一个氢原子,或为一个取代或未取代的苯基,或为环状的、直链的、或支链的烷基;Z为氧、ND基或NR5基,其中R5为一个氢原子,或为一个取代或未取代的苯基,或环状的、直链的、或支链的烷基;n、p和q为包括零的简单整数,m和o也为包括零的简单整数,并且它们中至少有一个是大于零。
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