[发明专利]高耐热照射敏感性抗蚀剂组合物

摘要

本发明公开了一种照射敏感性抗蚀剂组合物,其具有很高的敏感性,能形成高度耐热的抗蚀剂图案。这种照射敏感性抗蚀剂组合物除包含一种抗蚀剂物料外,还包含一种聚合物,该聚合物是使下述物质反应制备的(a)一种亚二甲苯基化合物;(b)水杨酸;和(c)3,3,3’,3’－四甲基－2,3,2’,3’－四氢(1,1’)－螺二茚,并且该聚合物的重均分子量为1,000～5,000,玻璃化温度(Tg)为100～150℃。(c)的实例包括9,9’－双(4－羟苯基)芴和3,3,3’,3’－四甲基－2,3,2’,3’－四氢(1,1′)螺二茚－6,6′－二醇。作为抗蚀剂物料,可以使用任一种正性和负性抗蚀剂,优选使用碱溶性树脂和醌二叠氨化物光敏剂。

主权项

1、一种照射敏感性抗蚀剂组合物，所述组合物至少包含一种抗蚀剂物料和一种有机溶剂，其中，所述的组合物包含一种聚合物，所述聚合物的重均分子量为1,000～5,000，玻璃化温度(Tg)为100～150℃，所述聚合物是由下述物质反应制备的：(a)一种由通式(I)表示的亚二甲苯基化合物：其中，R1和R2可相同或不同，彼此独立地代表卤原子、羟基或具有1～4个碳原子的烷氧基；(b)水杨酸；和(c)一种通式(II)和/或通式(III)的二羟基化合物：其中，R3、R4、R5、R6、R7和R8可相同或不同，彼此独立地代表烷基、烷氧基、硝基或卤原子，p和q彼此独立地为0或1～3的整数，r和s彼此独立地为0或1～4的整数，t和u彼此独立地为0、1或2。