[发明专利]使用硅烷进行金属防腐的方法有效
| 申请号： | 98801638.9 | 申请日： | 1998-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN1242805A | 公开（公告）日： | 2000-01-26 |
| 发明（设计）人： | W·J·范奥伊;V·萨布拉马尼恩;C·张 | 申请（专利权）人： | 辛辛那提大学 |
| 主分类号： | C23C22/56 | 分类号： | C23C22/56;C23C22/50;C23C22/68;C09D4/00;B05D7/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种使用硅烷进行金属防腐的方法。该方法包括将第一处理溶液直接涂覆到金属的表面上,其中所述第一处理溶液包含至少一种具有至少两个三取代甲硅烷基的多官能硅烷,且其中所述取代基单独选自烷氧基和乙酰氧基。也可使用包含有机官能硅烷的可选的第二处理溶液,尤其是在该金属要涂漆时。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 硅烷 进行 金属 防腐 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理金属基底的方法，包括以下步骤：(a)提供一种金属基底；然后(b)将第一处理溶液直接涂覆到所述金属的表面上，所述第一处理溶液基本上由至少一种具有至少两个三取代甲硅烷基的多官能硅烷组成，其中所述取代基单独选自烷氧基和乙酰氧基，其中所述多官能硅烷已至少部分水解，且其中所述第一处理溶液的pH值低于约7。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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