[发明专利]包含新的光活性化合物的正性光刻胶无效
| 申请号： | 98803145.0 | 申请日： | 1998-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1249824A | 公开（公告）日： | 2000-04-05 |
| 发明（设计）人： | D·L·杜尔翰姆;卢炳宏;J·E·欧伯兰德尔;D·N·克汉纳 | 申请（专利权）人： | 克拉里安特国际有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的正性光刻胶组合物包含一种减溶性树脂、具有以下结构(Ⅰ)的光活性化合物其中,X为O、S或N－R’,其中R’为H、烷基、取代烷基、芳基或芳烷基,Y为连接基团,如SO2、CO、O或NR’,Z为分子量大于约75的含碳有机压仓部分,且可与连接基团成键,R独立地为H、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素或氟烷基,m=1－3,且n≥1;以及一种溶剂或溶剂混合物。本发明还提供了一种将本发明正性光刻胶成像的方法,以得到正像。该光敏组合物特别适用作正性深紫外光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 活性 化合物 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种正性光敏组合物，它包括碱溶性树脂；由以下结构表示的光活性化合物：其中，X为O、S或N-R’，其中R’为H、烷基、取代烷基、芳基或芳烷基，Y为连接基团，如SO2、CO、O或NR’，Z为分子量大于约75的含碳有机压仓部分，且可与连接基团成键，R独立地为H、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素或氟烷基，m＝1-3，且n≥1；以及一种溶剂混合物。
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