[发明专利]斯腾特氏支架的制备方法无效
申请号: | 98803235.X | 申请日: | 1998-04-02 |
公开(公告)号: | CN1250488A | 公开(公告)日: | 2000-04-12 |
发明(设计)人: | 托马斯·特罗茨纳;格里·戈姆林格 | 申请(专利权)人: | 国际技术有限公司 |
主分类号: | C25D7/04 | 分类号: | C25D7/04;C25D5/34;C25D5/38;C25D5/36;C25D5/48;C25D5/50;B23H3/00;G03B27/04 |
代理公司: | 隆天国际专利商标代理有限公司 | 代理人: | 杨淑媛 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种斯腾特氏支架的制备方法,其涉及无需平面图案的边缘连接从而没有接点的加工管件。该方法包括步骤将污物从管件(20)上除掉,用光敏抗蚀剂材料(24)涂覆金属管件外表面,将管件置于设计的装置内的同时旋转管件,同时使特定构型的照相框架负片在UV光源和管件(26)之间通过,将管件外表面裸露于光抗蚀剂显影液一定时间(28),将多于的显影液和未老化的刻蚀剂从管件外表面淋洗掉(30),用电化学方法处理管件除掉未被覆盖的金属(32)。 | ||
搜索关键词: | 斯腾特氏 支架 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种斯腾特氏支架的制备方法,其包括下述步骤:(a)用光敏抗蚀剂涂覆金属管件外表面,得到涂覆管件;(b)将所述涂覆管件置于一种装置内,该装置能使所述涂覆管件的所述外表面对光源选择一部分曝光,同时选择其他部分遮挡光源,得到部分曝光的管件;(c)将所述部分曝光的管件浸入负性抗蚀剂显影液中得到处理的管件;和(d)用电化学刻蚀方法加工所述经处理的管件,以便将遮挡所述光源的位于所述管件的选择部分的金属除掉。
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