[发明专利]进行连续电解沉积过程的装置

摘要

一种实施连续电解沉积过程的装置(1)，其具有一阴极带电辊(3)，该带电辊表面的整个有用区域导电。一阳极A与带电辊同心并隔开设置。一种电解液流过带电辊(3)与阳极之间的间隙空间(6)。为带电辊(3)设置了屏蔽带(9、9′)，其在带电辊(3)的阴极表面与阳极A之间对带电辊(3)的边缘区域进行电屏蔽，从而防止该区域被电解镀膜。带电辊(3)上对于电解沉积过程有用的区域N位于屏蔽带(9、9′)之间。各屏蔽带(9、9′)朝向有用区域N的一侧包括一台阶(25′)，有待制造或镀膜的金属带的边缘部分的沉积层厚度一直到边棱减小至零，因此，在带电辊有用区域的外侧没有镀膜沉积。装置(1)即可用于电解法生产金属带，又可用于对金属带的一侧进行电解镀膜。

主权项

1.一种实施连续电解沉积过程的装置，其包括一旋转的阴极带电辊(3)和一个或多个与带电辊(3)大致同心并隔开一定间距设置的阳极(A)，该带电辊具有一在其整个有用宽度上导电的表面，带电辊(3)与阳极(A)之间的间隙空间(6)内流过一种包含溶解状待沉积金属的电解液，在带电辊(3)的边缘部分设置用于防止在电解沉积过程中在带电辊(3)的用不到的区域上镀膜的装置，其特征在于：带电辊(3)的各侧面设置一由电绝缘材料制成的屏蔽带(9、9′)，该屏蔽带端侧突出于带电辊的圆柱形表面，其位于阴极带电辊(3)与所述一个或若干阳极(A)之间，与带电辊(3)上对于电解沉积过程有用的区域(N)相邻，对沉积过程中用不到的带电辊(3)的边缘区域进行电屏蔽，并且其包绕带电辊(3)的部分至少要达到电解液的充填高度，各屏蔽带(9、9′)的朝向有用区域(N)的一侧具有一个在该方向上的台阶(25′)，该台阶沿屏蔽带(9、9′)的纵向延伸。