[发明专利]构造的着色有机材料、按图形掩蔽的方法和制备图形黑色基质的方法无效
| 申请号： | 98804032.8 | 申请日： | 1998-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1161655C | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | U·谢德利;E·廷格莱;V·哈尔－古勒;G·德基策尔 | 申请（专利权）人： | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
| 主分类号： | G03C7/12 | 分类号： | G03C7/12;G03F7/00;G03F7/105;B41M3/00;C09B67/22;C09B67/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺;王其灏 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及黑色颜料着色高分子量有机材料，它是由射线敏感前体经辐照处理而构造的，该材料的颜料由有色有机颜料构成，其中至少一种在辐照前为隐性形式。该材料优选用作以图案形式沉积在透明底层上的薄层，且可用作例如光学滤色器的黑色基质。本发明还涉及制备该材料的方法，以及可用于本方法的新型黄色双偶氮缩合颜料的可溶性衍生物。 | ||
| 搜索关键词： | 构造 着色 有机 材料 图形 掩蔽 方法 制备 黑色 基质 | ||
【主权项】：
1.一种构造的着色有机材料，其中该有机材料分子量为105-107 克/摩尔，包含以该着色材料为基准，至少5wt％的选自二酮吡咯并吡咯、二噁嗪、双偶氮、苯并咪唑酮偶氮、异二氢吲哚、异吲哚啉酮及酞菁颜料的有机颜料，其是通过对射线敏感前体进行辐照而获得的，其中该射线敏感前体-包含1-4种可转化为所述有机颜料的溶解的颜料衍生物，以及-在300～700nm的波长范围的透射率≥10％；而且该构造的材料在400～700nm的整个范围，暴露于辐照或未暴露于辐照部位的透射率≤5％。
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