[发明专利]超低铁心损耗的晶粒取向硅钢板及其制造方法有效
申请号: | 98804520.6 | 申请日: | 1998-12-22 |
公开(公告)号: | CN1163916C | 公开(公告)日: | 2004-08-25 |
发明(设计)人: | 井口征夫 | 申请(专利权)人: | 川崎制铁株式会社 |
主分类号: | H01F1/18 | 分类号: | H01F1/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周备麟;黄力行 |
地址: | 日本兵库*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 通过在钢板的基体表面和张力绝缘膜之间的界面上形成一层界面层或形成一层极薄的底膜,或者通过在形成界面层之前将钢板浸在主要由SiCl4组成的氯化物水溶液中以溶解基体表面或采用含SiCl4的水溶液进行抛光处理或酸洗处理,这样便显著改进膜对硅钢板基体表面的粘着性,该界面层例如为Fe、Si、Al、B中一种或多种元素的氮化物-氧化物层,而该底膜是通过Fe、Si、Al、B中一种或多种元素的氮化物-氧化物均匀分散到与张力绝缘膜的组成相同的膜成分中而形成的,故可得到铁心损耗显著优于常规钢板的超低铁心损耗的晶粒取向硅钢板并可降低成本和提高产率。 | ||
搜索关键词: | 铁心 损耗 晶粒 取向 硅钢 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超低铁心损耗的晶粒取向硅钢板,在其表面上形成主要由磷酸盐和硅胶构成的张力绝缘膜,该钢板在最后退火后其厚度为0.05-0.5mm,其特征在于,在钢板的基体表面和张力绝缘膜之间的界面上形成包括Si和选自Fe、Al和B中的一种或多种元素的氮化物-氧化物的界面层。
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