[发明专利]通过加入一种氧化还原引发剂体系降低液体体系中残余单体的方法有效
| 申请号： | 98809280.8 | 申请日： | 1998-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1113901C | 公开（公告）日： | 2003-07-09 |
| 发明（设计）人： | R·路帕内;S·拉雷茨;J·多比拉;G·鲍尔;F－J·缪斯勒;W·吉克内;B·R·莫里森;J·那斯托尔;M·美斯特;R·巴彻;W·胡宾格;G·舒马彻 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | C08F6/00 | 分类号： | C08F6/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 黄泽雄 |
| 地址： | 德国路德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种有效降低在聚合物水溶液，混合物，熔体，悬浮体或分散体中残余单体含量的方法，它是通过在生产反应釜中加入氧化-还原引发剂体系在适于该引发剂体系的温度和尽可能短的液体体系混合时间下进行后聚合。反应釜中至少加入一种残余单体聚合所需要的氧化-还原引发剂组分，添加时间比液体体系混合时间大10～250倍。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 加入 一种 氧化 还原 引发 体系 降低 液体 残余 单体 方法 | ||
【主权项】：
1.一种降低在由在液体体系中的自由基聚合制得的聚合物液体溶液，混合物，熔体，悬浮体或分散体中残余单体含量的方法，它是加入氧化-还原引发剂体系在20～140℃的反应温度下进行后聚合而实现的，其特征是，至少一种引发残余单体聚合所需的氧化-还原引发剂体系组分逐渐地加入到体积大于20dm3和具有1-30分钟混合时间的生产反应釜中的液体体系中，计量加入时间是该反应釜中液体体系混合时间的10-250倍。
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