[发明专利]喷射微粒的设备及其使用方法和制造液晶显示器的方法无效
| 申请号： | 98810614.0 | 申请日： | 1998-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1154007C | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | 馆野晶彦;中谷博之;吉村和也;中原真;吉良隆敏;池杉大辅;伴昌树;村田博;久保正明 | 申请（专利权）人： | 积水化学株学会社;夏普株式会社;日清工程株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;B05B5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微粒喷射设备，其中可以精确地控制微粒在具有电极的基片上的安排，尤其是一种微粒喷射设备，其中可以在不存在象素的电极之间的间距内选择性地设置间隔物，其中即使对于用于STN液晶显示装置中的，具有带状电极的基片；一种使用这种微粒喷射设备的喷射方法，以及用于制造液晶显示装置的方法。用于在具有多个电极的基片上选择性地安排带电微粒的微粒喷射设备包含用于放置基片的喷射室，用于将微粒提供给喷射室，并将微粒喷射到基片上的微粒供给装置，以及用于将电压提供给电极的单元，其中，电压供应装置可以分别将不同值的电压提供给电极。 | ||
| 搜索关键词： | 喷射 微粒 设备 及其 使用方法 制造 液晶显示器 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于选择性地在带有多个电极的基片上安排充电微粒的微粒喷射设备，其特征在于包含：适合于容纳所述基片的喷射室；用于将所述微粒提供到所述喷射室中，并将其喷射到所述基片上的微粒供给装置；和用于将电压提供给设置在所述基片上的电极的电压供应装置，其中所述微粒安排在电极间距内。
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