[发明专利]多层导电抗反射涂层及其制造方法和所述涂层的应用

摘要

本发明包括一适于涂布在柔性基片上的具有预定光学性能的多层无机抗反射涂层。该涂层包括一由五个材料层组成的叠层，其中所述第三层(10)是一由导电材料最好是铟-氧化锡构成的虚层，该导电材料使该涂层具有约25-2000Ω/sq的可调薄膜电阻，而不因此影响所述涂层的光学性能。该抗反射涂层可采用单程或双程真空磁控溅射的方法涂布于柔性基片(例如聚合物膜)上。该涂层具有最佳的光学性能例如在可见波长范围内的低的入射光反射率和大带宽。该涂层是导电的，适用于抗静电和EMI屏蔽用途。本发明还涉及所述涂层制造方法和应用。

主权项

1.一种涂布在柔性基片(13)上的具有预定光学性能的多层无机抗反射涂层(7)，其中所述涂层包括由五个材料层组成的叠层，从距离该基片最远的层开始，将其分别标记为第一，第二，第三，第四和第五层，其中所述第一层(8)的折射率小于所述基片，光学厚度在0.2～0.3λ0之间，所述第二层(9)折射率大于2.2，其光学厚度在0.4～0.6λ0之间，所述第四层(11)折射率与所述第一层的折射率相同，其光学厚度小于0.1λ0，所述第五层(12)折射率与所述第二层的折射率相同，其光学厚度为0.025～0.1λ0之间，λ0是约510nm，其特征在于所述第三层(10)是一由导电材料组成的虚层，该导电材料使该涂层具有约25-2000Ω/sq的可调薄膜电阻，所述第三层在所述涂层的复合光导纳Y取实数值的位置插入所述涂层中，所述导电材料的折射率接近所述实数值，从而所述涂层的光学性能不受该第三层的存在的影响。