[发明专利]有涂覆层的线状离子轰击式石墨电子发射体无效
| 申请号： | 98812165.4 | 申请日： | 1998-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1281587A | 公开（公告）日： | 2001-01-24 |
| 发明（设计）人： | 小D·I·阿梅;R·J·布查德;S·I·U·沙 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J1/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,钟守期 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了有涂覆层的线状的石墨电子发射体。这些场致发射体在场致发射体阴极、显示板、和照明设备中特别适用。这些石墨场致发射体是通过在所说的线上涂覆由石墨和玻璃原料组成的糊剂、焙烧这个糊剂、并用离子束轰击其焙烧产物形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 覆层 线状 离子 轰击 石墨 电子 发射 | ||
【主权项】：
1、一种用于生产场致发射电子发射体的方法，该方法包括如下步骤；(a)形成复合物层，该复合物层包含在线上的石墨颗粒和玻璃，其中所说的玻璃附着到所说的线上并且附着到所说的石墨颗粒部分上，借此使所说的石墨颗粒相互结合并且结合到所说的线上；和(b)用离子束轰击在(a)中形成的复合物层的表面，轰击时间足以在所说石墨颗粒上形成碳须，所说的离子束包括氩、氖、氪、或氙的离子。
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