[发明专利]等离子体化学汽相淀积装置和制造光纤、预制棒及套管的方法以及由此制造的光纤

摘要

本发明涉及一种进行等离子体化学汽相淀积(PCVD)的装置，通过这种装置可以将一层或多层氧化硅淀积在一个细长的玻璃质衬底上，该装置包括一个细长的微波波导体，微波波导体延伸至一个谐振腔，谐振腔大致围绕一圆筒轴呈圆筒状对称，衬底可以沿此圆筒轴放置，在该装置中：谐振腔大体为环形，它具有内圆筒壁和外圆筒壁；内圆筒壁包括一个狭缝，狭缝在围绕圆筒轴的整个圆周中延伸；波导体具有一纵轴，纵轴大致垂直于圆筒轴并且与狭缝不相交。本发明还涉及采用所述装置制造光纤、预制棒和套管的方法以及由此得到的光纤。

主权项

1.一种进行等离子体化学汽相淀积的装置，通过这种装置可以将一层或多层氧化硅淀积在一个细长的玻璃质衬底上，该装置包括一个细长的微波波导体，微波波导体延伸至一个谐振腔，谐振腔围绕一圆筒轴呈圆筒状对称，衬底可以沿此圆筒轴放置，其中谐振腔为环形，它具有内圆筒壁和外圆筒壁；内圆筒壁包括一个狭缝，狭缝在围绕圆筒轴的整个圆周中延伸；波导体具有一纵轴，纵轴垂直于圆筒轴并且与狭缝不相交，其特征在于：均在平行于圆筒轴的方向上测量的狭缝的宽度W和谐振腔的长度L满足关系式：W≤L/10。