[发明专利]非破坏性定量检测砷化镓单晶化学配比的方法

摘要

非破坏性定量检测砷化镓单晶化学配比的方法；利用X射线双晶衍射仪测量半绝缘砷化镓单晶片的晶格常数am；采用实时仪器校正X射线双晶衍射仪产生的误差，以高纯(11个″9″)、无位错硅单晶片为标准样品，每次测量晶格常数后，测量标准样品的晶格常数，计算仪器误差：Δa’＝a’-a’0其中，a’0＝5.431058为硅单晶的标准晶格常数；按下式消除仪器的测量误差，得到准确的单晶晶格常数：a＝am-Δa’，am为半绝缘砷化镓单晶晶格常数的测量值。

主权项

1、一种非破坏性定量检测砷化镓单晶化学配比的方法，其特征在于：利用X射线双晶衍射仪精密测量半绝缘砷化镓单晶片的晶格常数am；采用实时仪器校正X射线双晶衍射仪产生的误差，以高纯11个“9”、无位错硅单晶片为标准样品，每次测量砷化镓单晶片的晶格常数之后，测量标准样品的晶格常数，计算仪器误差：Δa′＝a′-a′0其中，a′0＝5.431058为硅单晶的标准晶格常数；a′为标准硅单晶片的晶格常数测量值；按下式消除仪器的测量误差，得到准确的砷化镓单晶晶格常数：a＝am-Δa′其中am为半绝缘砷化镓单晶晶格常数的测量值。