[发明专利]交换耦联薄膜及制造方法,磁阻效应装置及磁阻效应头有效

专利信息
申请号: 99100206.7 申请日: 1999-01-18
公开(公告)号: CN1112675C 公开(公告)日: 2003-06-25
发明(设计)人: 榊间博;广田荣一;川分康博;里见三男;杉田康成 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39;G11B5/31
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种交换耦联薄膜,其包括铁磁层和锁定层,所述锁定层与铁磁层相接触以锁定铁磁层的磁化方向,该锁定层包括(AB)2Ox层,其中:O代表氧原子;2.8<x<3.2;如下定义的t值满足0.8<t<0.97∶t=(Ra+Ro)/(∴·(Rb+Ro)),其中,Ra、Rb和Ro分别代表元素A和B的原子以及O原子的离子半径;以及(AB)2Ox层中的元素B包括Fe原子。本发明还涉及包括该交换耦联薄膜的磁阻效应装置、包括该磁阻效应装置的磁阻效应头以及制造该交换耦联薄膜的方法。
搜索关键词: 交换 薄膜 制造 方法 磁阻 效应 装置
【主权项】:
1、一种交换耦联薄膜,其包括铁磁层和锁定层,所述锁定层与铁磁层相接触以锁定铁磁层的磁化方向,该锁定层包括(AB)2Ox层,其中:O代表氧原子;2.8<x<3.2;如下定义的t值满足0.8<t<0.97:t=(Ra+Ro)/(2·(Rb+Ro))其中,Ra、Rb和Ro分别代表元素A和B的原子以及O原子的离子半径;以及(AB)2Ox层中的元素B包括Fe原子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99100206.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top