[发明专利]一种生产网点或非网点透视片的方法无效
申请号: | 99100529.5 | 申请日: | 1999-02-05 |
公开(公告)号: | CN1227928A | 公开(公告)日: | 1999-09-08 |
发明(设计)人: | 施明聪 | 申请(专利权)人: | 施明聪 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京市专利事务所 | 代理人: | 程凤儒 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种生产网点或非网点透视片的方法,首先在空白的塑胶薄膜上依序印刷或涂布出多层油墨,于油墨干固后成为一多色塑胶薄膜,再将多色塑胶薄膜与透明基层合并,经加热加压方式将多色塑胶薄膜的多层油墨移印于透明基层上;在多色塑胶薄膜第一次加热加压移印至透明基层后,成为一片多色塑胶薄膜涂料;将多色塑胶薄膜涂料以第二次加热加压移印至透明基层上,制成的透视片由正面观看为一幅图案或文字,由背面观看为深色(或透明)网点组成的图面,可由透明间隙(或透明网点)清楚看见外界景物。 | ||
搜索关键词: | 一种 生产 网点 透视 方法 | ||
【主权项】:
1、一种生产网点或非网点透视片的方法,其特征在于,首先在空白的塑胶薄膜上依序印刷或涂布出多层油墨,于油墨干固后成为一多色塑胶薄膜,再将多色塑胶薄膜与透明基层合并,经加热加压方式将多色塑胶薄膜的多层油墨移印于透明基层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施明聪,未经施明聪许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99100529.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:即食水饺的制作方法
- 下一篇:肉制食品防腐保鲜剂及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备