[发明专利]一种半导体器件及其制造方法无效
申请号: | 99100804.9 | 申请日: | 1999-02-14 |
公开(公告)号: | CN1115730C | 公开(公告)日: | 2003-07-23 |
发明(设计)人: | 广田俊幸;本间一郎 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社 |
主分类号: | H01L27/10 | 分类号: | H01L27/10;H01L21/28;H01L21/285 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种半球形晶粒状HSG下电极及其制备方法,提供一种电容器,其中包括:多晶硅下电极、介电膜、上电极,制备该电容器至少包括以下步骤:在下电极上形成一层半球形晶粒HSG硅,其中每个HSG在与下电极相接触的一面都具有一个直径较小的颈部;沉积一层硅膜,通过充填上述硅层的颈部外围与HSG之间的间隙来覆盖住上述HSG,同时保留所形成的HSG的不平整形状;形成介电膜;形成上电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括半球形晶粒HSG电极,该电极具有硅层和形成在硅层上的半球形硅晶粒,电极的特征在于:所述硅晶粒具有一个第一直径在与上述硅层相接触面部分变小的颈部,覆盖上述硅晶粒并充填了上述颈部与硅层之间空隙的硅膜,同时保留了硅晶粒的不平整,颈部被上述硅膜覆盖形成第二直径,第二直径比用上述硅膜覆盖形成的硅晶粒的最大直径要小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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