[发明专利]工业用射线照相新产品和新方法无效
| 申请号： | 99102546.6 | 申请日： | 1999-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1233778A | 公开（公告）日： | 1999-11-03 |
| 发明（设计）人： | G·M·德鲁安;Y·莫兰 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03B42/00 | 分类号： | G03B42/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,周慧敏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在高能电离辐射下曝光的卤化银射线照相产品,涉及一种新的射线照相系统,以及涉及一种形成射线照相相片的方法。具体而言,本发明涉及一种用于工业用高能射线照相的产品。本发明的射线照相产品具有改进的感光速度。 | ||
| 搜索关键词： | 工业 射线 照相 新产品 新方法 | ||
【主权项】：
1．一种用于工业射线照相的对色彩不敏感的射线照相产品，其银涂层密度为50-200mg/dm2，该产品包含至少在其一面涂有卤化银乳剂层的基片，该乳剂层含通式为(Ⅰ)的炔基胺，其量为0.05×10-3mol/molAg-1×10-3mol/molAg。其中Y1和Y2分别表示氢原子、烷基或芳香核，或者Y1和Y2共同表示形成取代的或未取代的芳香环或脂环的所需的原子，该环含有选自碳、氧、硒或氮的原子；R1表示氢原子、取代的或未取代的烷基或芳基基团；以及X选自氧、硫或硒。
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