[发明专利]用来在过程中使离子源清洁的系统和方法无效
| 申请号： | 99104445.2 | 申请日： | 1999-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1243330A | 公开（公告）日： | 2000-02-02 |
| 发明（设计）人： | M·A·格拉夫;V·M·本维尼斯特 | 申请（专利权）人： | 易通公司 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用来使离子源(12)清洁的方法和系统。该离子源包括等离子体腔室(22),可电离的掺杂气体源(66)和用来把可电离掺杂气体引进等离子体腔室中的第一机构(68),清理气体源(182)和用来把清理气体引进等离子体腔室中的第二机构(184),至少部分地设置在腔室内的激发装置(130),用来把能量赋予可电离的掺杂气体和清理气体,以在等离子体腔室内产生等离子体。等离子体包括掺杂气体的被分解和被电离的组份和清理气体的被分解和被电离的组份。 | ||
| 搜索关键词： | 用来 过程 离子源 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用来输出离子束(44)的离子源(12)，它包括：一个等离子体腔室(22)，它由腔室壁(112，114，116)构成，这些壁界定出一个电离区域(120)；一个可电离的掺杂气体源(66)和用来把所述可电离掺杂气体引进所述等离子体腔室中的一第一机构(68)；一个清理气体源(182)和用来把所述清理气体引进所述等离子体腔室中的一第二机构(184)；一个至少部分地设置在所述腔室内的激发装置(130)，用来把能量赋予所述可电离的掺杂气体和所述清理气体，以在所述等离子体腔室内产生等离子体，所述等离子体包括所述掺杂气体的被分解和被电离的组份和所述清理气体的被分解和被电离的组份；其中，所述清理气体的被分解和被电离的组份与所述掺杂气体的被分解和被电离的组份反应，以防止在所述腔室壁的表面上形成包括在所述可电离的掺杂气体内的元素的沉积层。
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