[发明专利]双折射测定方法及其装置无效
| 申请号： | 99105149.1 | 申请日： | 1999-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1236098A | 公开（公告）日： | 1999-11-24 |
| 发明（设计）人： | 森田展弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G01N21/43 | 分类号： | G01N21/43 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 杨梧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及双折射测定方法及其装置,该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。调整照射光学系位置,以发散光照射被检透镜,使偏振光元件回转,透过偏振光元件的光成像在受光元件上,根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出,计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像,也能很容易地对应被检透镜种类的变更。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 测定 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1．一种双折射测定方法，其特征在于，包括下列步骤：任意调整照射光学系相对配设在所定位置的被检透镜在光轴方向距离；上述照射光学系以所定偏振光状态的发散光照射上述被检透镜；使偏振光元件绕上述透过光的大致前进方向回转，检测其回转角度，上述偏振光元件用于使来自上述被检透镜的透过光的偏振光状态变化；通过成像元件使透过该偏振光元件的光大致成像在受光元件的受光面上；根据检测到的上述偏振光元件的回转角度及上述受光元件的受光输出，计算上述被检透镜的双折射。
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