[发明专利]控制气氛化学气相淀积的设备和方法

摘要

本发明揭示一种改进的化学气相淀积设备和方法。该技术在制备CVD涂层时对反应区或淀积区提供改进的屏蔽，从而可在常压下在对高温敏感和太大或不便于在真空或类似室中加工的基材上制造对气氛组分敏感的涂层。这种改进的技术可使用各种能源，且特别适用于燃烧化学气相淀积(CCVD)技术。

主权项

1.用于在基材上淀积涂层的化学气相淀积设备，其特征在于该设备包括：与所述的基材一起建立控制气氛区的装置，所述的控制气氛区包括邻接于所述基材的淀积区和与所述淀积区流动传递的反应区，用于将涂料前体导向所述的反应区的装置，用于在所述的涂料前体到达所述的淀积区之前向其提供能量的装置，和能与所述的基材一起建立隔离区的装置，其中要求从所述控制气氛区流向环境气氛中的气体以至少为50英尺/分钟的速度流动。