[发明专利]热阻层及其用途无效
| 申请号： | 99105579.9 | 申请日： | 1999-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1270103A | 公开（公告）日： | 2000-10-18 |
| 发明（设计）人： | 吴义勇;武东星;詹佳期;洪瑞华 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种由钽和钌所组成的热阻层,可适用在喷墨头上、精密电阻或电极等相关应用上。所述热阻层的钽含量在34%—78%之间,钌含量在22%—66%之间,并可为单一钽—钌合金层或纯钽层和纯钌层相互交叠而成的复合层。由于对上述由钽和钌所组成的热阻层的图案蚀刻过程仅需使用一般无毒性含氟气体以及氧气的活性离子制程,所以非常有利于制程整合,并可提高制程安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 热阻层 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、一种热阻层，其由钽和钌组成。
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