[发明专利]轧制铜箔及其制造方法有效
| 申请号： | 99106094.6 | 申请日： | 1999-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1126614C | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 波多野隆昭 | 申请（专利权）人： | 日矿金属株式会社 |
| 主分类号： | B21B1/40 | 分类号： | B21B1/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 林蕴和 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在不牺牲其它特性的情况下，本发明改善了现有轧制铜箔的抗弯曲性。一种优良抗弯曲性的具有立方织构的轧制铜箔，使得在对其进行200℃下的热处理达30分钟成为再结晶的结构的状态下，由X射线衍射确定的轧制表面的200面强度(I)对于微铜粉200面的X射线衍射强度(Io)有I/Io＞20的关系。一种制造轧制铜箔的方法，包括热轧制铜锭块，交替重复冷轧和退火，最后冷轧工件到厚度不超过50μm，在最后冷轧前立即进行的退火是在能使退火的再结晶晶粒具有5到20μm之间的平均晶粒尺寸和确保最后冷轧的压下率设定为不小于90％的条件下实现的。 | ||
| 搜索关键词： | 轧制 铜箔 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种轧制铜箔，具有优良的抗弯曲性，其特征在于，所述轧制铜箔具有这样的立方织构；在对其进行200℃下的热处理达30分钟成为再结晶的结构的状态下，由X射线衍射确定的轧制表面的200面强度(I)对于微铜粉200面的X射线衍射强度(Io)有I/Io＞20的关系。
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