[发明专利]光刻胶组合物无效

专利信息
申请号: 99106272.8 申请日: 1999-05-07
公开(公告)号: CN1235281A 公开(公告)日: 1999-11-17
发明(设计)人: 市川幸司;福井信人;落合钢志郎 申请(专利权)人: 住友化学工业株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 严舫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 有下述式(Ⅰ)、(Ⅱ)和(Ⅲ)表示的结构单元组成的光刻胶组合物其中,R1、R2、R3、R11、R12、R13、R21、R22和R23各自单独表示氢原子或烷基;R14、R15和R16中的一个表示脂肪碳氢残基和其余各自独立表示氢或脂肪碳氢残基,或R14、R15和R16中的两个或三个形成碳氢环;R表示一个可由酸的作用而裂解的基团;此光刻胶组合物即使在基片上带有有机抗反射膜的情况下仍提供极好的分辨率、极好的轮廓和宽聚焦界限。
搜索关键词: 光刻 组合
【主权项】:
1.一种光刻胶组合物,其特征在于含有一种树脂,该树脂在一个分子中有由以下述式(Ⅰ)、(Ⅱ)和(Ⅲ)表示的各结构单元:其中,R1、R2、R3、R11、R12、R13、R21、R22和R23各自单独表示氢原子或1至4个碳原子的烷基;R14、R15和R16中的一个表示脂肪碳氢残基和其余各自独立表示氢或脂肪碳氢残基,或R14、R15和R16中的两个或三个是彼此以一个碳原子结合在一起键合成碳氢环;R表示一个可由酸的作用而裂解的基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学工业株式会社,未经住友化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99106272.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top