[发明专利]镀熔融金属的装置无效
| 申请号： | 99106450.X | 申请日： | 1999-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN1235205A | 公开（公告）日： | 1999-11-17 |
| 发明（设计）人： | 中川师夫;齐藤幸雄;酒井淳次;下夕村修;芳村泰嗣;高仓芳生;下釜宏德;木村武久 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | C23C2/40 | 分类号： | C23C2/40;C23C2/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郑修哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种镀熔融金属的装置,可长期工作,镀金属产品的生产率高,镀出的质量好。与熔融金属接触的浸入式辊和支承辊的所有表面涂以铁的硅化物薄膜。轴承包括由耐热钢制的夹持器,并衬以碳/碳纤维复合材料。夹持器的表面涂有Fe3Si薄膜。轴表面涂以Fe3Si薄膜,Fe3Si薄膜与碳/碳纤维复合材料接触。本发明的浸入式辊和支承辊耐腐蚀性及抗磨性好,镀熔融金属的装置可长期工作,镀出的产品生产率提高了,镀出的产品质量好,熔融金属本身寿命也延长了。 | ||
| 搜索关键词： | 熔融 金属 装置 | ||
【主权项】：
1．一种镀熔融金属的装置，通过使固体金属与熔融金属接触而镀上金属，所述的装置包括一个在表面上有铁的硅化物薄膜的铁制元件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所，未经株式会社日立制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/99106450.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去；覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去；覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
