[发明专利]轴瓦及其制造方法无效
申请号: | 99107138.7 | 申请日: | 1999-06-02 |
公开(公告)号: | CN1111656C | 公开(公告)日: | 2003-06-18 |
发明(设计)人: | 格尔德·安德勒;詹斯-彼德·海因斯;克劳斯·格迪克;克里斯托弗·梅茨纳 | 申请(专利权)人: | 联合莫古尔威斯巴登有限公司 |
主分类号: | F16C33/12 | 分类号: | F16C33/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张兆东 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了一种轴瓦,它具有一支承件和至少一个金属表层,该表层用电子束气相沉积法加以涂覆并且包含至少一个在基体材料内精细弥散的组分,该组分的原子量大于基体材料的,其中精细弥散的组分(7)的浓度由轴瓦(1)的顶部区域(8)连续地向侧表面区域(9)增加。该方法的特征在于,在涂覆过程中,在轴瓦的顶部区域内惰性气体的压力设定为0.1至5Pa。 | ||
搜索关键词: | 轴瓦 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.轴瓦,它包括一支承件和至少一个金属表层(6),该金属表层(6)借助电子束气相沉积加以涂覆并包含至少一种在基体材料内精细弥散的组分,该组分的原子量大于基体材料的,其特征在于精细弥散的组分(7)的浓度由轴瓦的顶部区域(8)连续地向侧表面区域(9)减小。
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