[发明专利]具有精细构图的反射接触层的光发射器件有效

专利信息
申请号: 99108447.0 申请日: 1999-06-11
公开(公告)号: CN1247997A 公开(公告)日: 2000-03-22
发明(设计)人: S·D·勒斯特尔 申请(专利权)人: 惠普公司
主分类号: G02F1/00 分类号: G02F1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹光新,陈景峻
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明是包括一个用高反射材料制造的带有紧凑间隔的开孔的p型接触层,提高光提取效率的AlInGaN光发射器件。开孔的最小尺寸是发射光波长的1/4,与器件p型层电流侧向流动的距离相当。金属中的开孔部分占接触层上表面的20—80%,并精细地间隔开以实现透明和光的均匀发射。可选的绝缘密封剂可以淀积在p型接触层上,并钉扎在规则的间隔上提高接触层的粘结性,提高光提取。开孔中外延层的表面可以被刻蚀开孔来散射半导体内部的光,提高光提取。在器件的下表面采用反射层来提高光提取效率。
搜索关键词: 具有 精细 构图 反射 接触 发射 器件
【主权项】:
1.一种光发射器件,包括:一个异质结器件(10),其中器件是AlInGaN器件,包括一个n型层(12),一个p型层(16),和一个介于n型层和p型层之间、用来发射可见光λ的发射层(14);和两个导电材料制作的接触层(18,20),其中之一是连到n型层的n型接触层(18),另一个是连到p型层的p型接触层(20),其中两个接触层中至少有一个包括最小开孔尺寸为1/4λ的开孔图形,光可以通过开孔射出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普公司,未经惠普公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99108447.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top