[发明专利]半导体晶片装置及其制造方法无效
申请号: | 99108529.9 | 申请日: | 1999-06-23 |
公开(公告)号: | CN1126158C | 公开(公告)日: | 2003-10-29 |
发明(设计)人: | 沈明东 | 申请(专利权)人: | 沈明东 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H05K1/18 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 章蔚强 |
地址: | 台湾省台北市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体晶片装置的制造方法,提供一半导体晶片,它具有一形成有数个粘接垫的粘接垫安装表面,提供一具有第一、二粘附表面的绝缘胶带层,它的第一粘附表面与粘接垫安装表面粘接,绝缘胶带层形成有数个贯孔,在每个粘接垫与贯孔的孔壁之间形成一触点容置空间,每个触点容置空间内形成一导电触点,以及设有电路图形的电路布设表面与绝缘胶带层的第二粘接表面粘接,并将导电触点与电路板对应的电路图形粘接。如此能降低生产成本并提高生产的合格率。 | ||
搜索关键词: | 半导体 晶片 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体晶片装置的制造方法,其特征在于,它包含如下步骤:提供一半导体晶片,该半导体晶片具有一形成有数个粘接垫的粘接垫安装表面;提供一具有第一与第二粘附表面的绝缘胶带层,该绝缘胶带层的第一粘附表面与所述的半导体晶片的粘接垫安装表面粘接,绝缘胶带层配合半导体晶片的粘接垫处形成有数个用于暴露对应的粘接垫的贯孔,在每个粘接垫与形成暴露对应粘接垫的贯孔的孔壁之间形成一触点容置空间;在每个触点容置空间内形成一导电触点;以加热处理方式将一印刷电路板的布设电路图形的电路布设表面与所述的绝缘胶带层的第二粘接表面粘接,及将这些导电触点与电路板的对应的电路图形粘接,第二粘接表面的粘胶具有比导电触点的熔点低的熔点,在这些导电触点熔接印刷电路板的电路图形前,粘胶已熔接该印刷电路板的电路布设表面,且密封这些导电触点在触点容置空间内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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