[发明专利]异质结双极型晶体管无效

专利信息
申请号: 99109641.X 申请日: 1999-07-02
公开(公告)号: CN1111313C 公开(公告)日: 2003-06-11
发明(设计)人: 沈光地;邹德恕;陈建新;杜金玉;吴德馨;高国;徐晨;韩金茹;董欣;罗辑;魏欢;周静;孙泽长;袁颖;赵立新 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737
代理公司: 北京工大思海专利代理有限责任公司 代理人: 张慧
地址: 100022 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种量子阱基区异质结双极型晶体管,属于高速微电子技术领域,其特征是,沿基区纵向生长一个或多个非掺杂量子阱层,使基区内的多数载流子主要处在量子阱中作横向输运,从而大大提高多数载流子的横向迁移率,并同时形成对少数载流子的纵向漂移场,加速少数载流子的纵向渡越,在不提高基区宽度和掺杂总量的基础上显著减小基区电阻rb从而得到具有高电流增益、高fT、高fmax和低噪声系数NF的异质结双极型晶体管。
搜索关键词: 异质结双极型 晶体管
【主权项】:
1.一种异质结双极型晶体管,主要由电极、发射区、基区、及集电区构成,其特征在于:从纵向截面上看,所述基区包括有一个或多个有较窄禁带宽度的非掺杂薄层,这些非掺杂薄层的两侧是有较宽禁带宽度的势垒层,非掺杂薄层能够形成对于基区多数载流子的势阱,即非掺杂量子阱,而非掺杂薄层两侧的势垒层则是掺杂的,每个非掺杂薄层与其两侧的势垒层共同构成一量子阱单元,一个或多个这样的量子阱单元重复排列,从而在基区内形成一种调制掺杂量子阱结构。
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