[发明专利]光学记录介质及其制造方法以及光学记录和再现装置有效
申请号: | 99110010.7 | 申请日: | 1999-06-29 |
公开(公告)号: | CN1132167C | 公开(公告)日: | 2003-12-24 |
发明(设计)人: | 山崎刚;行本智美;古木基裕;柏木俊行 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 在此公开了一种光学记录介质,介质包括一个至少一层的信息层(11),在其上以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项,并且至少在其信息信号区域,在等于或大于执行至少记录和再现中的任意一项的光学记录和再现装置的伺服截止频率的波带处,焦点误差量是等于或小于±λ/(N.A.)2/8,而当只进行再现时焦点误差量在±λ/(N.A.)2/4之内。 | ||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 及其 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学记录介质,包括:一个至少一层的信息层,在其上以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项,其特征在于至少在其信息信号区域,在等于或大于光学再现装置的聚焦伺服截止频率的波带处,焦点误差量在±λ/(N.A.)2/4之内,轨道间距P和歪斜θ被选成满足:P≤0.64μmθ≤0.4°。
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