[发明专利]立方氮化硼烧结体有效
| 申请号： | 99110635.0 | 申请日： | 1999-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1242350A | 公开（公告）日： | 2000-01-26 |
| 发明（设计）人： | 深谷朋弘;久木野晓;白石顺一 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/5831 | 分类号： | C04B35/5831;C22C29/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种抗缺口性能优良的cBN烧结体,它通过粘结相将cBN粒子加以粘结。粘结相具有二维连续分布结构,其包含的成分如说明书所述。cBN含量为45—70%体积%。所述粘结相厚度的平均值小于或等于1.5μm,而且其标准偏差小于或等于0.9μm,同时所述cBN粒子的平均尺寸为2—6μm(起止两个尺寸包括在内)。所述粘结相厚度的平均值小于或等于1.0μm且其标准偏差小于或等于0.7μm时,所述cBN粒子的平均尺寸不小于0.01μm但小于2.0μm。 | ||
| 搜索关键词： | 立方 氮化 烧结 | ||
【主权项】：
1.一种包含cBN粒子和一种粘结所述cBN粒子的粘结相的cBN烧结体，所述粘结相为二维连续分布；所述粘结相至少包括下列物质之一种：周期表中的4a、5a、或6a族过渡金属的碳化物、氮化物、碳氮化物，或者硼化物；Al的氮化物、硼化物，或者氧化物；至少一种Fe、Co、或Ni的碳化物、氮化物、碳氮化物、或硼化物；以及一种上述这些物质的相互固溶体；所述粘结相的厚度平均值为小于或等于1.5μm，并且，其标准偏差小于或等于0.9μm；所述cBN的体积分数为45-70％：而且所述cBN粒子的平均尺寸为2-6μm(2μm和6μm包括在内)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电气工业株式会社，未经住友电气工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/99110635.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
