[发明专利]低温珐琅粉及低温珐琅浆无效
| 申请号： | 99114480.5 | 申请日： | 1999-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1291594A | 公开（公告）日： | 2001-04-18 |
| 发明（设计）人： | 林奇新 | 申请（专利权）人： | 林奇新 |
| 主分类号： | C03C8/02 | 分类号： | C03C8/02;C03C8/14;C03C1/00 |
| 代理公司： | 常州市中天专利事务所 | 代理人： | 翁坚刚 |
| 地址： | 213016 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种珐琅粉及珐琅浆。本发明的珐琅粉含基体剂二氧化硅,基体剂兼助熔剂三氧化二硼,助熔剂氧化锂、氧化钠、二氧化钛,乳浊剂氟化钙,密着剂氧化钼,熔加调整物氧化锌、氧化铝及氧化钡。在上述组分的基础上加上粘土及适量的水即得到本发明的珐琅浆。本发明的珐琅粉及珐琅浆在使用中烧成温度较低、可在烘箱外或烘房外进行搪瓷或搪玻且可对烧成的制品进行修补,所烧成的制品在pH3～12时很稳定,使用寿命在15年以上。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 珐琅 | ||
【主权项】：
1、一种低温珐琅粉，其特征在于，具有以下组份(重量)：基体剂二氧化硅45份，基体剂兼助熔剂三氧化二硼17～23份，助熔剂氧化锂10～12份，助熔剂氧化钠6～22份，助熔剂二氧化钛8～26份，乳浊剂氟化钙25～30份，密着剂氧化钼5～7份，熔加调整物氧化锌8～25份，熔加调整物氧化铝1～12份，熔加调整物氧化钡6～8份。
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