[发明专利]带有含受阻胺稳定剂基质的成像元件无效
| 申请号： | 99118163.8 | 申请日： | 1999-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1246650A | 公开（公告）日： | 2000-03-08 |
| 发明（设计）人： | P·T·艾尔瓦德;V·J·哈里斯;T·S·古拉 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/775 | 分类号： | G03C1/775;G03C1/005;B32B27/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,钟守期 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种成像元件,其片基载像层一面包含至少两个聚合物层,其中至少一层聚合物层加有稳定有效量的受阻胺。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 受阻 稳定剂 基质 成像 元件 | ||
【主权项】：
1.一种成像元件，含有一种基质，该基质载像层一面涂有至少两层聚合物层，其中至少一层聚合物层加有稳定有效量的受阻胺。
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