[发明专利]具有含低分子量受阻胺稳定剂基质的成像元件无效
| 申请号： | 99118164.6 | 申请日： | 1999-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1246651A | 公开（公告）日： | 2000-03-08 |
| 发明（设计）人： | P·T·艾尔瓦德;V·J·哈里斯 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/775 | 分类号： | G03C1/775 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,钟守期 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种成像元件,所述成像元件包含纸基质以及与之邻接的包含聚烯烃和受阻胺稳定剂的薄层,其中所述受限胺稳定剂的数均分子量小于2300。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 分子量 受阻 稳定剂 基质 成像 元件 | ||
【主权项】：
1.一种成像元件，包含一种纸基质以及所述纸的邻接层，所述层包含聚烯烃聚合物和受阻胺稳定剂，其中所述受阻胺稳定剂的数均分子量小于2300。
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