[发明专利]光刻校正的方法有效
| 申请号： | 99118197.2 | 申请日： | 1999-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1286415A | 公开（公告）日： | 2001-03-07 |
| 发明（设计）人： | 汪炳颖;张瑞钦;杨俊仪;林春荣;王明宗 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/31 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 黄敏 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光刻校正的方法,用当图形呈现一凹角21时,所显像后的光刻胶便会有残留,反之,如为一凸角时,便会有过蚀的情形,推衍出首先将集成电路分割,而后对每一分割块的四个角进行分析,判断此四个角与周围的图形间为凸角、或凹角、或是平坦状态,而后依其状态决定校正,如为凸角,则加一增补块,如为凹角,则加一削除块。如为平面,则不需处理。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 校正 方法 | ||
【主权项】：
1．一种光刻校正的方法，该方法包含的步骤为：(1)首先将一集成电路的图形以四方形分割成为由四方形的分割块所组成的图形；(2)对每一个该分割块的四个边角进行分析，若分析的结果，该边角为凸角，则加上一增补块；(3)对每一个该分割块的四个边角进行分析，若分析的结果，该边角是为凹角，则加上一削除块；(4)对每一个该分割块的四个边角进行分析，若分析的结果，该边角是呈平面，则不予处理。
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