[发明专利]一种施加复合电磁场的电磁铸型和铸造方法无效

专利信息
申请号: 99120824.2 申请日: 1999-09-22
公开(公告)号: CN1142045C 公开(公告)日: 2004-03-17
发明(设计)人: 李廷举;金俊泽;张兴国;曹志强;姚山;郑贤淑 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B22D11/115 分类号: B22D11/115
代理公司: 大连理工大学专利中心 代理人: 修德金
地址: 116024辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 铸造领域的一种施加复合电磁场的电磁铸型,包括电磁铸型4、电磁线圈和冷却、供电装置,特征:在铸型外侧,距其上端面30-100mm处设置与液面10处于同一水平面、频率为10-100kHz的高频线圈6;在对应直浇道9出口处设有电磁铁5;在电磁铸型出口下方,设有频率为3-60kHz的低频搅拌线圈3;使用该电磁铸型时,铸造中始终保持液面与高频线圈上端面高度误差为±10mm。优点:(1)降低表面粗糙度32%,(2)减少夹杂和疏松,(3)提高等轴晶比率24%。
搜索关键词: 一种 施加 复合 电磁场 电磁 铸型 铸造 方法
【主权项】:
1、一种施加复合电磁场的电磁铸型,主要是由电磁铸型[4]、设在电磁铸型[4]外侧的电磁线圈、冷却和供电装置所构成,其特征在于:a)、在电磁铸型[4]的外侧,距其上端面30-100mm处设置有一个上端面与液面[10]处于同一水平面、频率为10-100kHz、功率为40-100kW的高频线圈[6];b)、在高频线圈[6]下方,于对应直浇道[9]出口位置处,设置有磁感应强度为1500-2000G的直流电磁铁[5];c)、在电磁铸型[4]出口的下方,设置有频率为3-60Hz、电流为100-200A的低频搅拌线圈[3]。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99120824.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top