[发明专利]曝光装置和使用该装置的成象装置无效
| 申请号： | 99123413.8 | 申请日： | 1999-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN1154023C | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | 根村雅晴 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 马浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括：一具有线性列阵的许多发光元件的发光器件；一用于驱动该发光元件的驱动器；一用于使该发光元件发出的光在预定的位置上成象的成象光学系统。提供第一支承以支撑该发光器件和驱动器。提供第二支承以支撑该成象光学系统。提供一导热件，以插在该第一和第二支承之间的间隙中。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 使用 成象 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，包括：带有多个发光元件的线性阵列的发光机构；一用于驱动上述发光元件的驱动器；用于将上述发光元件发出的光聚焦的透镜；一用于支撑上述发光机构和上述驱动器的第一支承；一用于支撑上述透镜的第二支承；其特征在于：还包括一导热橡胶件，被插在上述第一和第二支承之间的间隙中。
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