[发明专利]含有吡唑并唑类成色剂和特殊抗褪色组合物的照相材料无效
| 申请号： | 99124647.0 | 申请日： | 1999-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1258860A | 公开（公告）日： | 2000-07-05 |
| 发明（设计）人： | S·W·考恩;A·J·穆拉 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/34 | 分类号： | G03C1/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张元忠,周慧敏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种卤化银照相材料,包括载有感光卤化银乳剂层的支持体,乳剂层中结合有环状唑类成色剂染料和包括以下化合物的稳定剂组合物i)式I化合物ii)式S化合物其中R3是烷基,链烯基或芳基;R5是烷基;R4和R6是取代基;m是整数0—5;n是整数0—4。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 吡唑 成色 特殊 褪色 组合 照相 材料 | ||
【主权项】：
1.一种卤化银照相材料，包括载有感光卤化银乳剂层的支持体，乳剂层中结合有环状唑类成色剂和包括以下化合物的稳定剂组合物：i)式I化合物：ii)式S化合物：其中：R3是烷基，链烯基或芳基；R5是烷基；R4和R6是取代基；m是整数0-5；n是整数0-4。
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