[发明专利]研磨用组合物及漂洗用组合物有效
| 申请号： | 99124888.0 | 申请日： | 1999-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1146623C | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | 儿玉一志;大胁寿树;谷克己;横道典孝;德植孝;藤冈则夫;佐山哲也 | 申请（专利权）人： | 不二见株式会社;东邦化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/14 | 分类号： | C08J5/14;C08L25/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 章鸣玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 1种包含(a)水，(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物，(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料，在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物；1种包含以上(a)～(c)组分，在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好，并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 漂洗 | ||
【主权项】：
1.一种存储器硬盘的研磨用组合物，其特征在于，包含以下组分(a)～(d)：(a)水，(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物，(c)选自除组分(b)之外的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料。
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